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一种曝光及显影设备，包括: 边缘曝光装置，用于对基板的边缘进行曝光； 显影装置，用于对曝光后的基板进行显影，该边缘曝光装置位于该显影装置的入口处； 其中，该基板在被输送至该显影装置的过程中，被该边缘曝光装置进行边缘曝光。调研剖析－－标志不仅仅是一个图形或文字的组合，它是根据企业的构成结构、行业类别、运营理念，并充沛考虑标志触摸的目标和使用环境，为企业拟定的标准视觉符号。如权利要求2所述的曝光及显影设备，其中，该驱动装置包括伺服马达、丝杠、螺母及螺母座，该丝杠与该伺服马达的输出端连接，当该伺服马达启动时，该丝杠旋转，连接于该丝杠的螺母在该丝杠上直线运动，进而带动固定于该螺母上的螺母座直线运动，该边缘曝光机和CXD影像处理器设置于该螺母座上。
有机树脂、夜光颜料、反光颜料、增等经合成，研磨制成的单组份反光型高ji标志漆。及驱动装置，与该边缘曝光机和CCD影像处理器连接，该驱动装置根据该基板的偏移量驱动边缘曝光机移动，以补偿该偏移量。1、具有反身光线功能，为驾驶员在高速行驶中提供高清晰度的交通标志。2、漆膜平滑，抗q化、抗紫外线辐射，耐候性能优。3、耐酸耐碱、耐大气雾，耐温及耐水性能优异，使用寿命长达五年以上。4、附着力强，对木材、钢材、铝合金、玻璃、陶瓷及复合板材制作的路牌均具有高附着力，天长日久，不易脱落，不起皮，开裂。5、无毒，无性物质，对人体及环境无污染。6、漆膜常温固化，单组份，冷施工，干燥快。
曝光显影工艺
曝光时间的控制 曝光时间是影响干膜图像非常重要的因素。该两组边缘曝光装置共用一个驱动装置，该驱动装置上分别对应于该基板的两长边各设有一组边缘曝光机和CXD影像处理器，该驱动装置驱动该两组边缘曝光装置沿相同的方向移动相同位移量。曝光不足，抗蚀膜聚合不够，显影时胶膜溶胀、变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶；曝光过度，将产生显影困难，胶膜发脆，余胶等问题。3.曝光 (1)影响曝光质量的因素 ①光源的选择要求是干膜光谱吸收主峰与光源发射主峰重叠或大部分重叠。各种光源中，镝灯、高压灯和碘灯是较好的
曝光后，聚合反应还要持续一段时间，为保证工艺的稳定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，以使聚合反应持续进行。涂布丝网感光胶时，每涂三次烘干一遍，需连续作3－4遍，直到胶膜达到需要的厚度为止，再进行曝光。待显影前再揭去聚膜。 4.显影 曝光后的干膜有些需要放置10～15min后才能显影，这必须根据实际情况，根据干膜的要求执行。 利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应，生成可溶性的物质溶于水，而曝光部分的干膜不发生溶解。 常用1％～2％的碳酸钠水溶液作显影液，液温30～40℃，显喷淋去膜生产，但应经常检查喷嘴是否堵塞，在膜液中必须添加消泡剂。