主要技术指标：  

测量范围（VIS）：15nm—100μm  

测量重复性（RMS）：0.086nm  

测量精度（与椭偏仪对比）：0.25nm  

测量层数：大于3层  

使用光源：卤素灯；  

入射角度：90°  

测试材料：透明或半透明薄膜材料；  

光斑尺寸：20μm—3mm（可选）  

测量时间：100ms—4ms；  

通信接口：USB2.0  

产品特点：  

采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；  

可在真空环境使用；可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量。  

薄膜测厚仪测试数据：  

薄膜测厚仪设备组成：  

测试主机、光纤、校正件、测量头、夹持装置、设备箱、手提电脑。  

 

http://www.zwscience.com/Products-35707688.html 

https://www.chem17.com/st476407/erlist_2228784.html